三星半導體研究所最近的一份招聘通知中提到，將開發(fā)一種透光率為92%的EUV薄膜。

　　此前報道顯示，三星電子已經(jīng)開發(fā)出透光率高達88%的EUV薄膜，而且已經(jīng)可以大規(guī)模生產(chǎn)。這意味著這家韓國科技巨頭已經(jīng)達成上述目標，并提出了一個新的發(fā)展路線圖，將透光率提高4個百分點。

　　三星電子還開始對High-NA EUV薄膜的研究，這被稱為下一代的EUV工藝，該工藝的開發(fā)將基于新材料。該公司宣布將與外部研究機構(gòu)合作，開發(fā)和評估由碳納米管和石墨烯制成的EUV薄膜。該公司還計劃挑選一些研究人員，負責為該公司自行開發(fā)的納米石墨薄膜(NGF)設(shè)計大規(guī)模生產(chǎn)設(shè)施。

　　EUV薄膜是半導體光刻工藝中的必備材料，它們可以作為一種覆蓋物，阻止外來物質(zhì)附著在掩模上，可以最大限度地減少生產(chǎn)過程中的缺陷并延長昂貴的掩模的壽命來幫助降低成本。

　　然而，由于EUV光被大多數(shù)材料吸收的特性，想要商業(yè)化很困難。盡管三星電子已經(jīng)提高了薄膜的技術(shù)水平，但專家們判斷將這種材料大規(guī)模量產(chǎn)的時機還未成熟。

　　三星電子的競爭對手臺積電從2019年其已在其量產(chǎn)線上使用自己研發(fā)的EUV薄膜。這家中國臺灣代工巨頭在2021年宣布，與2019年相比，其EUV薄膜產(chǎn)能提高了20倍。